☞ Home > 사업/상품소개>약품사업분야>중성주석도금
중성 석 도금
약품명 용 도 특징
MS-NT500 MLCC용의 가성소다욕임.
사용pH는3.0-4.0이다
MS-NT500 Process는 Lead Free도금액으로 바렐욕 중성석도금액이며, 특히 칩 도금에 적합하다.
1.할로겐 족 특히 불산계열 화합물을 쓰지 않아 칩의 부식이 적다.
2.도금입자가 고르고 작아 Solderability와 밀착력이 뛰어나며 산소에 의한 산화도 적다.
3.Throwing power가 좋아 도금의 두께편차가 적다.
4.거품이 빨리 소멸되어 거품발생이 많은 장비에 유리하다.
MS-LSM350 칩저항용의 암모니아욕임.
사용pH는 3.0-4.8이다.
MS-LSM350은 바렐 욕 중성 석 도금액으로 특히 칩 도금용액으로 쓰인다.
1.할로겐 족 특히 불산계열 화합물을 쓰지 않아 칩의 부식이 적다.
2.도금입자가 고르고 작아 Solderability와 밀착력이 뛰어나며 산소에 의한 산화도 적다.
3.Throwing power가 좋아 도금의 두께편차가 적다.
 
Tin/Tin-Lead/Tin-Bi합금 도금액
약품명 용 도 특징
MS-Deflasher   동패턴만으로 팔라듐 촉매 부여가 가능
MS-Activation MS-Activation은 동금속,혹은
동합금 금속(C7025) 등 부식에
민감한 리드 프레임의 산화피막
또는 열 처리 시에 발생된 스케일
을 효율적으로 세척하기 위한
Acidic Descaler.
1. 할로겐 화합물이 전혀 없다.
2. 다른 손상없이 소재를 클리닝하며 활성화는 균일하다.
3. 처리 후에 솔더 퍼짐성이 향상된다.
4. 동 base가 over etching되지 않는다.
5. sludge의 발생이 없다.
MS-HSM MS-HSM 은 I/C Package및 전자
부품용Pure Tin 반광택 고속 도금
Process이다.
1. Lead Free 유기산욕에 적합하다.
2. 넓은 범위의 전류 밀도에서도 균일한 도금을 얻을 수 있다.
3. 반광택의 순수한 주석도금에 적합하다.
4. Whisker(구렛나룻 같이 생긴 현상)발생을 최소화 하였다.
5. 낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
6. 뛰어난 납땜성(Solderability)의 도금을 얻을수 있다.
7.전자부품 도금에 널리 사용된다.
MS-LSM MS-LSM은 Lead-Free도금액으로
써100%주석의 무광/반광택의 저
전류용 도금액 첨가제이다.
1.유기산욕, 유산욕등의 넓은 범위에 적용이 가능하다.
2.넓은 범위의 전류밀도에서도 균일한 도금을 얻을 수 있다.
3.BARREL과 RACK도금에 적합하도록 설계되었다.
4.무광 또는 반광택의 순수한 주석 도금에 적합하다.
5.Whisker(구렛나룻 같이 생긴현상)발생을 최소화하였다.
6.낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
7.뛰어난 납땜성(Solderablility)의 도금을 얻을수 있다.
8.전자부품 도금에 널리 사용된다.
MS-MSM MS-MSM은 주석과 주석-납을
위한 반광택 도금용 저전류 도금
액 첨가제 이다.
1.유기산욕, 유산욕등의 넓은 범위에 적용이 가능하다.
2.넓은 범위의 전류밀도에서도 균일한 도금을 얻을 수 있다.
3.BARREL과 RACK도금에 적합하도록 설계되었다.
4.반광택의 순수한 주석과 97:3에서60:40까지의 석-납 도금에 적합하다
5.미세한 조직의 도금:Whisker(구렛나룻 같이 생긴현상)가 생기지않는다.
6.낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
7.뛰어난 납땜성(Solderablility)의 도금을 얻을수 있다.
8.전자부품 도금에 널리 사용된다.
MS-HSM30 MS-HSM30은 I/C Package및 전
자부품용Pure Tin반광택 고속 도
금 Process이다.
1.Lead Free 유기산욕에 적합하다.
2.넓은 범위의 전류 밀도에서도 균일한 도금을 얻을 수 있다.
3.반 광택의 순수한 주석 도금에 적합하다.
4.Whisker (구렛나룻 같이 생긴 현상)발생을 최소화 하였다.
5.낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
6.뛰어난 납땜성 (Solderability)의 도금을 얻을 수 있다.
7.전자부품 도금에 널리 사용된다
MS-HSM40 MS-HSM40은 I/C Package및 전
자부품용 Pure Tin 반광택 고속
도금 Process이다.
1.Lead Free 유기산욕에 적합하다.
2.넓은 범위의 전류 밀도에서도 균일한 도금을 얻을 수 있다.
3.반 광택의 순수한 주석 도금에 적합하다.
4.Whisker (구렛나룻 같이 생긴 현상) 발생을 최소화 하였다.
5.낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
6.뛰어난 납땜성 (Solderability)의 도금을 얻을 수 있다.
7.전자부품 도금에 널리 사용된다.
MS-LSM25 MS-LSM 25은 Lead-Free 도금액
으로써, 100% 주석의 무광/반 광
택의 저 전류용 도금액 첨가제이
다.
1.유기산욕, 유산욕 등의 넓은 범위에 적용이 가능하다.
2.넓은 범위의 전류밀도에서도 균일한 도금을 얻을 수 있다.
3.BARREL과 RACK 도금에 적합하도록 설계되었다.
4.무광 또는 반광택의 순수한 주석 도금에 적합하다.
5.Whisker (구렛나룻 같이 생긴 현상) 발생을 최소화 하였다.
6.낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
7.뛰어난 납땜성 (Solderability)의 도금을 얻을수 있다.
8.전자부품 도금에 널리 사용된다.
MS-HSB MS-HSB은 전자부품, LEAD
FREE용 PURE TIN(주석)을 위한
광택 고속도금 첨가제이다.
1.유기산욕에 적합하다.
2.넓은 범위의 전류밀도에서도 균일한 광택도금을 얻을 수 있다.
3.낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
4.뛰어난 납땜성(Solderability)의 도금을 얻을 수 있다.
5.전자부품 도금에 널리 사용된다.
6.특히 REEL TO REEL 등의 고속도금에 적합하다
MB-LSB MB-LSB 주석과 주석-납을 위한
광택 도금용 저전류 도금액 첨가
제이다.
1.유기산욕의 넓은 범위에 적용이 가능하다.
2.넓은 범위의 전류밀도에서도 균일한 광택도금을 얻을 수 있다.
3.BARREL과 RACK도금의 저 전류에 적합하도록 설계되었다.
4.광택의 순수한 주석과 97:3에서 60:40까지의 석-납 도금에 적합하다.
5.미세한 조직의 도금:Whisker(구렛나룻 같이 생긴현상)가 생기지 않는다.
6.낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
7.뛰어난 납땜성(Solderability)의 도금을 얻을 수 있다.
8.전자부품 도금에 널리 사용된다.
MB-LSM MB-LSM은 Pb-Free도금액으로써
, Sn-Bi 반광택 도금용 저전류 도
금액 첨가제이다.
1.유기산욕에 적용이 가능하다.
2.넓은 범위의 전류밀도에서도 균일한 도금을 얻을 수 있다.
3.BARREL과 RACK도금의 저 전류에 적합하도록 설계되었다.
4.반광택의 순수한 주석과 Bi의 97:3도금에 적합하다.
5.미세한 조직의 도금:Whisker(구렛나룻 같이 생긴현상)가 생기지 않는다.
6.낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
7.뛰어난 납땜성(Solderability)의 도금을 얻을 수 있다.
8.전자부품 도금에 널리 사용된다.
MB-HSM MB-HSM은 Pb Free도금액으로써
, Sn/Bi무광/반광택 도금용 고속
도금액이다.
1.유기산욕에 적용이 가능하다.
2.넓은 범위의 전류밀도에서도 균일한 도금을 얻을 수 있다.
3.R-T-R과M-T-M 도금에 적합하도록 설계되었다.
4.반광택의 주석과 Bi의 98:2도금에 적합하다.
5.미세한 조직의 도금:Whisker(구렛나룻 같이 생긴현상)가 생기지 않는다.
6.낮은 탄소 농도의 도금을 얻을 수 있다.
7.뛰어난 납땜성(Solderability)의 도금을 얻을 수 있다.
8.전자부품 도금에 널리 사용된다.
MS-LSB MS-LSB는 전자 부품 또는 일반
부품의 황산석 광택 도금을 위한
첨가제 이다
1.넓은 범위의 전류밀도에서도 균일한 광택도금을 얻을 수 있다.
2.광택의 석 도금에 적합하다.
3.전자부품 도금에 널리 사용된다.
4.BARREL, RACK 도금에 적합하다.
MS-S30 MS-S30은 전자부품 또는 일반
부품의 황산석 광택 도금을 위한
첨가제이다
1.넓은 범위의 전류밀도에서도 균일한 광택도금을 얻을 수 있다.
2.광택의 석도금에 적합하다.
3.전자부품 도금에 널리 사용된다.
4.BARREL, RACK 도금에 적합하다.
 
Sn-Ag/Sn-In/Sn-Au
약품명 반광택 비 고
고 속 용 도
MS-AG 40A
MS-AG 40B
  50㎖
140㎖
MS-AG 40도금 프로세스는 IC 범프형성에 있어서 최소공차의 범프 두께 및 합금 조성을 제공하여 균일한 Sn/Ag 범프 형성을 할 수 있게 설계된 범프 형성에 있어서의 최적의 도금 프로세스이다.
MA-AU 30A 30㎖   Sn/Au 합금 도금액 첨가제
MS CU-HS30A
MS CU-HS30B
30㎖
80㎖
  Sn/Cu 합금 도금액 첨가제
MSAG-118A
MSAG-118B
50㎖
160㎖
50㎖
50㎖
Sn/Ag 합금 도금액 첨가제
전류밀도 5-20dm 0.2-0.7dm  
온도 25(℃) 25(℃)